小型甩帶機 高真空單輥旋淬系統產品概述：

系統主要由感應熔煉真空室、爐門、單輥旋淬裝置、感應熔煉機構、電動直線進給機構、噴鑄系統、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機架等各部分組成。

小型甩帶機 高真空單輥旋淬系統設備用途：

高真空單輥旋淬及噴鑄系統是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。

主要技術參數

1、樣品最大熔煉量：20g

2、輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷)

3、銅棍速度：0-6000r/min

4、真空度：根據真空系統確定

5、熔煉電源功率：7.5KW;15Kw

6、熔煉溫度：0-2000℃（根據坩堝與功率確定）

7、熔煉坩堝：石英，石墨和氮化硼

8、條帶寬度：1-10mm

9、真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)

10、設備尺寸：620*560*780m（L*W*H）

11、桌面式設計，占地空間小，特別節約實驗空間和能源

工程條件

1、設備總功率: 18Kw

2、總進線要求:三相，380V, 50Hz

3、設備總重量:^ 220Kg

4、設備占地面積: 1000*600*700mm (長*寬*高）

典型應用

熔態單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業進行新材料的科研